京華激光：子公司所研發(fā)的光刻機主要用于光學制版，非用于半導體領域

京華激光7月22日發(fā)布股票交易風險提示公告，公司控股子公司美國菲涅爾制版科技公司主要從事光刻機的研發(fā)工作，所研發(fā)的光刻機主要用于光學制版，非用于半導體領域，與芯片光刻機在精準度、復雜度等方面存在較大的差異，如公司光刻機屬于微米級，芯片光刻機屬于納米級，精度相差1000倍，并且不具備通過技術改進升級為芯片光刻機的可能性。